真空光學鍍膜機

真空光學鍍膜機

商品名稱: HYZK-1200真空光學(電子槍)鍍膜機
型號: HYZK-1200
規格: Ф1200×H1300mm
商品描述:

HYZK系列真空光學(電子槍)鍍膜機型號及技術參數
性能 型號
HYZK -900
HYZK -1200
HYZK -1300
鍍膜室尺寸
Ф900×H1050mm
Ф1200×H1300mm
Ф1300×H1400mm
工裝夾具
拱形單工件盤,更大限度滿足客戶對均勻性的需要,旋轉5-30 r/min,無級變速
1.拱型單工件盤,滿足客戶對均勻性的要求,旋轉530r/min,無級變速.
2.拱型三工件盤,行星公自轉,滿足客戶對生產量的要求,旋轉5-30r/min,無級變速
真空系統
擴散泵KT-600,羅茨泵ZJ-300,機械泵2X-70,維持泵2X-8,管路為304不銹鋼.
擴散泵KT-900羅茨泵ZJ-600,滑閥泵H—150型,,維持泵2X-15,管路為304不銹鋼.
擴散泵KT-900羅茨泵ZJ-600, 滑閥泵H—150型,,維持泵2X-15,管路為304不銹鋼.
極限真空:優于6×10-4PA
配置防湍流裝置,安全互鎖設計,手動,自動可選
加熱系統
發熱管上加熱方式,PID控制,最高350℃±1.5℃。
工作氣體充氣
氣體質量控制儀或是手動微調充氣閥
真空離子轟擊
直流3KV,0.6KW棒狀陰極(用于鍍膜前自行對工件進行清洗)和氣體離子源選配
蒸發源
(選配)
1.電子槍:6KW、高壓4KV-10KV可調。定位掃描、三角波掃描、圓形掃描、螺旋掃描、方波掃描、正弦波、束斑聚焦性好、定位精度高、掃描再現性好。
2.坩堝:六穴Φ38*20坩堝或四穴Φ38*20加一穴中心弧長87的弧形坩堝(用于耗量大低熔點蒸發材料)或穴Φ48*18坩堝。
離子源
(選配)
1.5KVA霍兩離子源:用于電鍍前清洗或電鍍過程進行輔助鍍,有利于提高膜層折射率、牢固度、提高膜層致辭密性、附著力。
鍍膜控制系統
(選配)
1.晶控器:可儲存1-99層自動鍍膜過程,99種程序數據,精度0.5$+1A固定誤差。
2.光控器:采用多波長的全光譜終點分析技術,通過對監控片370-870mm的透射率(或反射率)曲線分析來判定膜層,控制精度高;也可采用單波長控制,自動控制和手動控制。附加MACILEOD膜系計算軟件,一體化程度高。
3.光控器配合晶控器能滿足高精度,高重復性的鍍膜要求,與上位機配合可以實現自動控制
4.國產光控器:波長330-870可調,精度可達到±1.5NM。
返回列表
黄网址在线播放